SEMILAB薄膜厚度和電阻率測量裝置WMT

SEMILAB薄膜厚度和電阻率測量裝置WMT

光致發光PLl-101/A, PLI-103/A,壽命測量裝置WML,WLL,薄膜厚度和電阻率測量裝置WMT,WLT,晶體形狀測量裝置TTR-300,發射極片電阻測量裝置CMS,CLS,激光橢圓儀SE-100IL,LE-100IL

產品介紹

用于晶體和電池檢測的光致發光設備快速可靠的在線光致發光設備，用于在從切割晶體到成品電池的所有加工階段對晶體和電池質量進行無損測量。可以控制整個制造階段的材料質量。高質量的晶體可生產出高效的電池，從而降低制造成本。

對厚度、TTV 和電阻率進行高速、非接觸式評估。厚度和電阻率是光伏應用中硅片的關鍵質量控制參數。WLT 型號（WLT-1、WLT-3、WLT-5）在線薄膜厚度和電阻率測量系統提供 1-5 點厚度和 1 點電阻率，用于全自動晶圓生產線的在線質量控制滿足要求的高吞吐量。WMT 型號（WMT-1、WMT-3）薄膜厚度和電阻率測量系統允許在不停止傳送帶的情況下進行晶體測量（“動態”測量）。

兩側的厚度、電阻率和鋸痕都可以用這個太陽能硅片輪廓測量系統測量。

發射極擴散后，發射極薄層電阻是 PV 應用中硅晶片的關鍵質量控制參數。

CLS 型號（CLS-1A、CLS-3A、CLS-5A）的發射極薄層電阻測量系統以高吞吐量測量 1 到 5 個點的薄層電阻，以滿足全自動電池生產線中在線質量控制的要求。

CMS 型號（CMS-1A、CMS-3A）的發射極薄層電阻測量系統允許在不停止傳送帶的情況下測量晶圓（“On the Fly”測量）。因此，它實現了高通量，以滿足電池全自動化生產線中在線質量控制的要求。

LE-100IL：用于 PV 晶體涂層測量的在線激光橢圓儀