| | 設備簡介： 均溫氧化擴散爐應用于半導體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池及大規模集成電路制造等領域對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝，可用于2-8英寸工藝尺寸 | ||
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配置詳情
| | 設備特點： 1.溫場均勻，恒溫區長度及精度：300～1250mm 800~1200℃±1℃ 2.具有強大的軟件功能，NBD-101EP嵌入式操作系統，用戶可以方便地修改工藝控制參數，并可隨時顯示各種工藝狀態；配有故障自診斷軟件； 6.可存儲多組PID參數供系統運行調用功能，具有多點溫度補償 | ||||||
| 可配工藝管外徑 | 爐管外徑152mm 適用于3＂；爐管外徑252mm 適用于6＂； 爐管外徑300mm 適用于8＂ | ||||||
| 溫度控制范圍 | 300~1150 ℃ | ||||||
| 恒溫區長度及精度 | 300～1250mm（依客戶要求定） 300~800 ℃±1.5℃, 800~1100 ℃±1℃ | ||||||
| 可控升降溫速率 | 升溫速率：≦15℃/min 降溫速率≦5℃/min | ||||||
| 加熱區個數 | 3區，4區，5區，6區（依客戶要求定） | ||||||
| 送料方式 | 手動送料 | ||||||
| 冷卻系統 | 水冷2-4Kgf/cm2，8L/min；＋上接排風冷≈25m3/min； | ||||||
| 軸向溫場分布 |
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| 徑向溫場分布 | | ||||||
| 控制系統 | | 1.可預存15條工藝曲線，避免不同的實驗工藝重復設置帶來的麻煩； 2.實驗過程更加直觀，操作更加便捷； 3.NBD-101EP嵌入式操作系統中英文互換圖形界面，10寸真彩觸屏輸入，智能式人機對話模式，非線性式樣溫度修正； 4.具有超溫報警、斷偶提示、漏電保護等功能。 | |||||
| 加熱腔體 | | 采用優質加熱絲：KANTHAL及HRE 絕熱材料：晶體纖維等 絕緣子：高純剛玉，間距依據溫場調節 端口過渡環：氧化鋁纖維真空成型。 溫區：3段、4段、5段、6段
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| 真空密封系統 |
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| 真空度：≤10Pa（機械泵） | |||||||
| 供氣系統 | | 采用質子流量計控制氣體流速，與設備集成為一體； | |||||
| 可選配項目 | 1. 出料口排毒氣柜； 2. 凈化出料臺； 3. 自動石英漿推拉舟機構 | ||||||
| 設備使用注意事項 | 1. 裝取樣片必須帶石棉手套，使用石英器件小心打碎； 2. 選擇合適的石英舟，取出清潔好的石英托板和石英拉鉤； 3. 安裝樣片插入到石英舟的槽內，用石英拉鉤將石英舟推入爐管到恒溫區； 4. 爐管內壓力不得超過0.15MPa（壓力），以防止壓力過大引起危險； 5.高真空下使用時），設備使用溫度不得超過1000℃； | ||||||
| 服務支持 | 一年有限保修，提供終身支持（保修范圍內不包括易耗部件，例如爐管和密封圈等） | ||||||
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