一、儀器主要用途

二、儀器技術原理和參數

1、儀器工作原理

原子或離子可處于不連續(xù)的能量狀態(tài)，該狀態(tài)可以用光譜項來描述；當處于基態(tài)的原子或離子吸收了一定的外界能量時，其核外電子就從基態(tài)躍遷到激發(fā)態(tài)，而處于激發(fā)態(tài)的原子或離子很不穩(wěn)定，經由約數秒便躍遷返回基態(tài)，并將激發(fā)所吸收的能量以光的形式放出，將這些光按一定的波長順序排列即為原子光譜；由于特定元素可產生一系列不同波長的光，通過識別待測元素的特征光譜存在與否即可進行定性分析，根據該波長光的強度進行定量分析。

激發(fā)臺中的電極與預先制備好的金屬樣本之間在激發(fā)過程中產生電火花?；鸹òl(fā)出的光通過入射狹縫進入光室，通過光柵分光后，不同波長的光以不同的角度分開，照射到CMOS傳感器上。傳感器將光信號轉化成為電信號，并通過測量系統傳輸給計算機，經處理后，得出分析結果。

2、主要技術參數

W4型全譜直讀光譜儀擁有多項技術，可快速的對金屬材料樣品進行元素測定。光學系統采用CMOS檢測器，光譜范圍覆蓋全部典型材料。無論從低含量元素還是到高含量的元素，它都能準確、可靠的分析。，針對不同材料、不同要求，具有性價比高的全譜直讀光譜儀，可滿足金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉用于質量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的應用。

1、性能*的光學系統

帕邢-龍格結構凹面光柵，全譜覆蓋，滿足客戶對全元素檢測的需求。

直射式光學技術及采用MgF材料制作的光學器件，保證紫外區(qū)域的性能。

高分辯率多CMOS讀出系統，更低的暗電流，更好的檢出限，更高的穩(wěn)定性，更強的靈敏度，滿足N的分析要求。

全數字化智能復合光源DDD技術，帶來*分析性能。

緊湊的設計及半導體控制技術，使得光源具有更好的穩(wěn)定性、更強的可靠性。

高能預燃技術（HEPS),激發(fā)參數調整，充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發(fā)要求。

激發(fā)臺直接將激發(fā)光導入光學系統

開放式樣品臺，滿足大樣品測試要求。

變換電極可對小樣品及復雜幾何形狀樣品分析有更好的性能

智能氬氣流設計及粉塵收集清理裝置

的氬氣噴射技術，有效消除激發(fā)過程中等離子體的飄移，確保CCD檢測器能夠觀測高溫區(qū)域光信號，提高精度和穩(wěn)定性。

激發(fā)后，脈沖式氬氣吹掃，提高粉塵去除效果，提升儀器的短期和長期穩(wěn)定性。

真空系統程控，在保證真空度的同時減少真空泵的運行時間，

雙級設置，在儀器不運行的情況下，開啟待機真空運行狀態(tài)。

多級真空隔離措施及增加濾油裝置，保障光學元器件在可靠的環(huán)境中工作。

一體化的真空球閥，在清理透鏡時有良好的隔離效果。

單板式透鏡設計，拆裝方便。

交叉機械裝置，在未解除隔離的情況有效保護光學系統。

計算機與手機（或PAD)可同步顯示，方便面板操作。

高分辯率多CMOS讀出系統及FPGA、DSP和ARM技術，進行數據采集。

以太網和TCP/IP協議，數據傳輸高速、可靠。

數據可遠程傳輸，全面實現網絡化。實時方便對儀器運行狀態(tài)的監(jiān)測和控制。

數據可進行云打印。

國際光譜儀制作標準的專用光譜儀軟件，操作界面人性化，功能標準化。

儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質分析方法和*的解決方案。

可根據用戶的材料要求，可現場延長標準曲線的測量上、下限。

9、儀器及軟件運算功能強大

自動光路校準

低氬氣消耗
通用可調樣品適配器

基體擴展功能

標準化參數修改

控樣修正功能

更安全、更開放的便捷設計

結果實時顯示，可為用戶定制打印報告功能

軟件快速診斷
界面操作簡單    

可靠的工廠校準功能