| 主要參數 | |||
| 外形尺寸 | 424（L）×345（D）×420（H） | 輸入電源 | 220V/800W |
| 可用靶材 | 所有金屬、部分化合物 | 靶材尺寸 | φ57mm |
| 真空室 | 高硅硼玻璃 φ200×130mm | 工作介質 | 高純氬氣（≥4N） |
| 低真空泵 | 旋片泵 | 抽速 | 1.1L/s |
| 高真空泵 | 進口渦輪分子泵 | 抽速 | 90L/s |
| 極限真空 | ≤5×10-3Pa | 工作真空 | 0.1-3Pa |
| 濺射電流 | 5-200mA 可調 | 濺射時間 | 1-999s 可調 |
| 樣品臺 | φ125mm | 樣品臺轉速 | 4-20rpm 可調 |
| 顯示屏 | 7 英寸 TFT 彩色觸摸屏 | 抽氣節拍 | ≤5 分鐘 |
| 進氣 | 全自動 | 放氣 | 全自動 |
| 預濺射 | 具備預濺射擋板，全自動控制 | ||
| 保護功能 | 過流保護、真空保護、分子泵過熱保護等 | ||
| 膜厚儀 （選配） | 可實時顯示鍍膜厚度，并通過設定來控制鍍膜過程，測量精度 0.1nm，單次鍍膜設定范圍 1-999nm，測量范圍 10μm | ||
| 其它 | 可根據用戶需要，提供定制化產品 | ||
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