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晶元半導體臺階測高顯微鏡-VMM系列-上海思長約光學儀器有限公司

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新時間2024-03-30
  • 廠商性質經銷商
  • 所在地區上海市
  • 實名認證已認證
  • 產品數量346
  • 人氣值3396
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 上海思長約光學儀器有限公司是一家專門從事研究、生產和銷售精密光學儀器、精密機械、計算機軟件(圖形圖象分析、測量測繪、建筑以及各種應用軟件)、電子機械產品的開發和服務的高科技企業公司。公司擁有一批*從事光學精密儀器開發及分析應用維修的經驗豐富的工程師,在設備儀器的維護、維修、和調試等方面的技術力量雄厚。企業產品通過了ISO9001質量和ISO14000環境管理體系的認證,建立了適合市場經濟的質量管理體系。 公司產品可廣泛應用于農牧、輕工、機械、電子、冶金、醫療、化工等多個行業,可適應衛生、教育、國防等部門及各大專院校、科研單位相關工作需求。其產品主要包括:金相顯微鏡:雙目倒置型金相顯微鏡、電腦倒置型金相顯微鏡、數碼倒置型金相顯微鏡、三目正置型金相顯微鏡、透反射型金相顯微鏡、大平臺型金相顯微鏡、研究型金相顯微鏡、金相分析軟件,金相設備:金相試樣拋光機、金相試樣磨拋機、金相試樣預磨機、金相試樣磨平機、金相試樣切割機、金相試樣鑲嵌機、熱鑲嵌料、冷鑲嵌料、金相拋光織物、金剛石拋光產品、金相*砂紙,硬度計:顯微硬度計、布氏硬度計、洛氏硬度計、表面洛氏維氏硬度計、表面洛氏硬度計、維氏硬度計、肖氏硬度計、里氏硬度計、邵氏硬度計、多用硬度計,熒光顯微鏡:電腦型落射熒光顯微鏡、數碼型落射熒光顯微鏡、電腦型倒置熒光顯微鏡 、數碼型倒置熒光顯微鏡,偏光顯微鏡:雙目型偏光顯微鏡、電腦型偏光顯微鏡、數碼型偏光顯微鏡、透反射偏光顯微鏡、偏光熔點儀、偏光分析軟件,生物顯微鏡:學生生物顯微鏡、單目生物顯微鏡、雙目生物顯微鏡、電腦型生物顯微鏡,數碼型生物顯微鏡,電腦型倒置生物顯微鏡,數碼型倒置生物顯微鏡,體視顯微鏡:變倍體視顯微鏡、視頻顯微鏡、檢測顯微鏡、電視型體視顯微鏡、電腦型體視顯微鏡、數碼型體視顯微鏡,測量顯微鏡,工具顯微鏡,影像測量儀:標準型影像測量儀、增強型影像測量儀、二次元影像測量儀,工業投影儀:正向投影儀、臥式投影儀、二維圖形測量軟件,物理儀器:阿貝折射儀、數字阿貝折射儀、棱鏡折射儀、阿貝比長儀、可見分光光度計、自動旋光儀、數字熔點儀、粒度儀、微機光澤度儀、透光率霧度測定儀、比較測色儀、分光測色儀、測差計、光電霧度計、濁度儀、應力儀、紅外水分測定儀、水份快速測定儀、旋轉式粘度計、數字式粘度計、電子分析天平、電子精密天平、單盤機械天平、差動熱分析儀、綜合熱分析儀、熱重分析儀等等。


    公司秉承"高精密、重服務" 的宗旨,永遠思考,不斷創新,以百倍的努力回報始終關心愛護公司成長的廣大用戶,用智慧和誠摯與廣大用戶攜手共創美好明天。

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晶元半導體臺階測高顯微鏡介紹VMM測量顯微鏡系列是觀察、測量和處理系統化的顯微鏡陣容
晶元半導體臺階測高顯微鏡-VMM系列-上海思長約光學儀器有限公司 產品詳情

晶元半導體臺階測高顯微鏡-VMM系列-上海思長約光學儀器有限公司

晶元半導體臺階測高顯微鏡介紹
VMM測量顯微鏡系列是觀察、測量和處理系統化的顯微鏡陣容。
特點
● 視場寬闊,可得清晰無閃爍正像
● 高精度測量,同時具有大測量范圍和高精度,適用于各種測量
● 可選用高NA物鏡,滿足長工作距離的測量要求
● 照明裝置(反射/透射)可選用高亮度LED的照明或鹵素照明
● 利用可變孔徑光闌進行無衍射觀察測量
● 各類尺寸的標準工作臺
● 快速釋放裝置便于測量工件大或測量工件數量多的快速移動工作臺
● 高位目鏡觀察
● 便捷CCD圖像成像,可選配多種CCD數碼相機
觀察成像


偏光觀察
觀察過濾后只有一個方向振動的光。適于觀察具有特殊光學特性的材料,如礦石和液晶。

微分干涉對比觀察
在檢測金屬、液晶和半導體表面的微小劃痕和階差時很有效。

暗視場觀察
擋住直射到物體上的光,只觀察散射光,通過高對比度能觀察到在亮視場看不到的劃痕和粉末。

亮視場觀察
最普通的觀察方式,直接觀察從工件表面反射的光。

新功能增強Z軸測量精度
● 輔助對焦(FA)
新近研發的分光棱鏡輔助對焦(FA)提供更銳利的圖案,可在Z軸測量期間提供精確對焦。由于不同物鏡焦深差異導致的測量誤差被降到。


對焦

前端對焦

后端對焦

規格
● 無限遠系統,管鏡200mm
● 傾斜角度30°,瞳孔距離55-75mm,正像
● 高眼點,大視場WF10/22
● 鼻輪螺紋M26X0.706
● Z軸的長度180mm,微動精度0.002mm,測量精度(at20℃),XY-軸的(2.5+0.02L)um,L=測量長度(mm)在沒有放物體分辨率為0.001mm
● 12V50W反射鹵素燈
● 3W高亮度LED光源
● 可配置輔助調焦裝置(FA)

技術參數

型號

VMM-8Ⅰ型

VMM-8Ⅱ型

VMM-8 Ⅲ型

VMM-8
Ⅳ型

VMM-12Ⅰ型

VMM-12Ⅱ型

VMM-12Ⅲ型

VMM-12
Ⅳ型

鏡筒

1×光學管徑,雙目目鏡,帶有CCD1/2靶面接口

觀察圖像

正像

觀測方法

輔助對焦系統

-

-

頭部或照明器FA系統

頭部或照明器FA系統

-

-

頭部或照明器FA系統

頭部或照明器FA系統

微分干涉對比

可選微分觀測對比

目鏡

10X(視場直徑:25mm),可選十字分劃板,可選:視場直徑:22mm

物鏡(100x選配)

95mm 2x,
5x,10x,
20x,50x

60mm 5x,
10x,20x,
50x

95mm 2x,
5x,10x,
20x,50x

60mm
5x,
10x,20x,
50x

95mm 2x,
5x,10x,
20x,50x

60mm 5x,
10x,20x,
50x

95mm 2x,
5x,10x,
20x,50x

60mm
5x,
10x,20x,
50x

照明裝置

反射照明

內置孔徑光闌,LED光源,無極亮度調節,可選鹵素照明

透射照明

白色LED照明,無極亮度調節

工作臺

XY測量范圍

200*100

200*100

200*100

200*100

300*200

300*200

300*200

300*200

快速釋放裝置

X軸和Y軸(標配)

調零開關

X軸和Y軸(標配)

數顯計器

顯示軸

2軸或3軸

分辯率

0.0005mm(可選0.00002mm)

VMM-8-Ⅰ型主圖

VMM-8-Ⅱ型主圖

VMM-8-Ⅲ型FA主圖

VMM-8-Ⅳ型FA主圖

VMM-12-Ⅰ型主圖-95mm

VMM-12-Ⅱ型主圖-60mm

VMM-12-Ⅲ型FA主圖-95mm

VMM-12-Ⅳ型FA主圖-60mm

介紹
95MM金相長工作距離明場物鏡。
特點
● 可見光成像
● 無限遠光學系統,管徑焦距200mm
● 物鏡螺紋M26 x 0.706
技術參數

平場復消色差M PLAN APO L

數值孔徑N.A.

工作距離W.D.

焦距f

景深D.F.

分辨率R

視場

目鏡(WF10/24)

1/2"CCD攝像頭

2X

0.055

34.6

100

91μ

Φ12

2.4x3.2

5X

0.14

45

40

14μ

Φ4.8

0.96x1.28

10X

0.28

34

20

3.5μ

Φ2.4

0.48x0.64

20X

0.29

30.8

10

3.5μ

Φ1.2

0.24x0.32

50X

0.42

20.5

4

1.6μ

0.7μ

Φ0.45

0.10x0.13

100X

0.55

12.5

2

0.9μ

0.5μ

Φ0.24

0.05x0.06

介紹
60MM金相平場半復消色差物鏡。
特點
● 可見光成像
● 物鏡螺紋M26 x 0.706
技術參數

名稱

物鏡

目鏡(WF10/25)

數值孔徑N.A.

有效工作距離W.D.(mm)

焦距f′(mm)

分辨率R(μm)

物理焦深±Δp(μm)

物方視場(mm)

焦點深度±Δ(μm)

5X

0.15

11.6

40

2.1

16.3

Φ5

38.3

10X

0.3

6.3

20

0.9

3.1

Φ2.5

7.8

20X

0.4

10.3

10

0.69

1.8

Φ1.25

3.5

50X

0.8

2

4

0.34

0.4

Φ0.5

0.8

100X

0.80

1.96

2

0.34

0.2

Φ0.25

0.6

介紹
45MM金相平場消色差明場物鏡。
特點
● 可見光成像
● 無限遠光學系統,管徑200mm
● 物鏡螺紋M20.32
技術參數

名稱

物鏡

目鏡(WF10/25)

數值孔徑N.A.

有效工作距離W.D.(mm)

焦距f′(mm)

分辨率R(μm)

物理焦深±Δp(μm)

物方視場(mm)

焦點深度±Δ(μm)

5X

0.13

11.6

40

2.1

16.3

Φ5

38.3

10X

0.3

6.4

20

0.9

3.5

Φ2.5

7.8

20X

0.4

11.1

10

0.7

1.6

Φ1.25

3.5

50X

0.55

8.2

4

0.5

10.9

Φ0.5

1.4

100X

0.80

2

2

0.4

0.4

Φ0.25

0.7

微分干涉介紹
微分干涉DIC在正交偏光的基礎上,插入DIC棱鏡,即可進行DIC微分干涉相襯觀察。使用DIC技術,可以使物鏡表面微小的高低差產生明顯的浮雕效果,極大的提高圖像的對比度。
5X、10X、20X專為DIC設計,使得整個視場的干涉色一致,微分干涉效果非常出色,高倍物鏡DIC效果也較好。



關鍵詞:顯微鏡 標準
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