原位激光過程氣體分析儀(單端式)產品介紹
GasTDL-3100原位激光過程氣體分析儀是基于可調諧半導體激光吸收光譜技術(TDLAS)的高性能光學分析儀器,無需采樣預處理系統,能夠在高溫、高粉塵、高腐蝕等惡劣的環境下進行原位氣體濃度測量。
原位激光過程氣體分析儀(單端式)產品特性
采用TDLAS技術,被測氣體不受背景氣體交叉干擾
單端開孔,無需對光;直插式設計,極大簡化了安裝調試
無需采樣預處理系統,實時快速測量
內置標準氣體參比模塊,動態補償,實時鎖住吸收譜線,不受溫度、壓力以及環境變化的影響
可用于惡劣工業環境中,抗化學腐蝕、高粉塵、高水分
原位激光過程氣體分析儀(單端式)技術參數
性能參數 | |
測量組分 | O2、CO2、CO、CH4(可定制) |
測量原理 | TDLAS |
測量范圍 | 0~2%VOL(可定制) |
精度 | ≤±1%F.S. |
重復性 | ≤±1% |
分辨率 | 0.01%VOL |
響應時間 | T90≤4s |
工作參數 | |
環境溫度 | -20~60℃ |
工作電源 | 24V DC |
吹掃氣源 | 0.3~0.8MPa工業氮氣 |
接口信號 | |
通訊接口 | RS-485 |
輸出模式 | 4~20mA |