主要特點及參數
● 高效率：采用的光學技術，縮短了生產周期，提高了生產效率
● 高精度：通過對光學系統的精細調整，保證圖像的精確性
● 易操作：系統控制簡單方便，易于生產操作
● 設備安全：系統采用安全設計，確保生產過程中的人員和設備安全
● 技術支持：提供專業的技術支持和售后服務，保證系統的正常使用
● 光刻材料：支持多種光刻材料，包括硅片、玻璃片、聚碳酸酯等
● 半導體工藝：支持常用的半導體工藝，如薄膜沉積、光刻、蝕刻等
● 光刻工具：支持常用的光刻工具，如光刻掩膜、光刻模板等
● 分辨率：可達到 100 nm
● 工作面積：620 mm × 620 mm
● 光源：KrF 激光
● 光路系統：F-Theta 鏡
EVG 620NT 光刻機的工藝過程大致如下：
1. 材料準備：選擇適當的光刻材料，如硅片、玻璃片等，進行表面處理
2. 掩膜制作：根據生產要求，制作光刻掩膜，并確保掩膜的精確性
3. 樣品處理：將樣品固定在工作臺上，并確保樣品的穩定性
4. 光刻操作：打開光刻機，根據生產要求，對樣品進行光刻處理
5. 樣品檢查：檢查樣品的質量，確保其符合生產要求
● 分辨率：可達到 100 nm
● 工作面積：620 mm × 620 mm
● 光源：KrF 激光
● 光路系統：F-Theta 鏡
