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  • 重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯MX63 / MX63L半導體檢查顯微鏡

重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯MX63 / MX63L半導體檢查顯微鏡

參考價
面議
具體成交價以合同協議為準
  • 型號
  • 品牌
  • 所在地重慶
  • 更新時間2024-10-22
  • 廠商性質經銷商
  • 所在地區重慶市
  • 實名認證已認證
  • 產品數量1662
  • 人氣值5185
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       重慶汗丁貿易有限公司是一家專業提供工業生產中非生產原料性質的工業用品和服務的綜合服務商(工業MRO)。重慶汗丁貿易目前已與國內外多個工業物資優質廠商建立了穩定的合作關系,擁有完善的物料采購供應體系,產品涵蓋儀器儀表、電工電氣、勞保安防、清潔暖通照明、工業控制、五金耗材、工器具、潤滑膠黏化工、機械設備部件等多個系列產品線,單品達數萬件。
       重慶汗丁貿易有限公司秉承“誠信、高效”的理念,專注于工業非生產性耗材物資一站式采購,努力為客戶提供更優質、更便捷的采購供應服務,以滿足客戶省時、省力等眾多需求。
       重慶汗丁貿易儀器儀表部供應產品品牌¬¬——福祿克FLUKE、勝利儀器VICTOR、優利德UNI-T、日本共立KYORITSU、日本三和SANWA、日本**、美國MEGGER、日本橫河YOKOGOWA、中國臺灣泰仕TES、日本高砂TAKASAGO、德圖儀器TESTO、日本三豐Mitutoyo等。
        電工電氣部供應產品品牌——施耐德Schneider、ABB、西門子SIEMENS、通用電氣GE、艾默生Emerson、正泰CHINT、天正TENGEN、德力西DELIXI、人民電器PEOPLE、常熟開關、德國穆勒MOELLER、環宇HUYU、森源電氣SENYUAN、羅格朗 LEGRAND等。
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        電子產業部供應產品品牌——日本白光HAKKO、美國奧科METCALI、日本馬康MALCOM、日本有理控UNICONTROL、日本武藏MUSASHI、美國MEISEI、韓國用友UISYS、中島銅工KOTELYZER、美國泰康TECHCON、日本固特GOOT、日本邦可BONKOTE等。
 

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簡單介紹: 重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯MX63 / MX63L半導體檢查顯微鏡重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯MX63 / MX63L半導體檢查顯微鏡的多功能觀察功能可提供清晰,銳利的圖像,因此用戶可以可靠地檢測樣品中的缺陷。OLYMPUS中的新照明技術和圖像采集選項Stream圖像分析軟件為用戶評估樣品和記錄其結果提供了更多選擇。
重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯MX63 / MX63L半導體檢查顯微鏡 產品詳情
詳情介紹:

重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯MX63 / MX63L半導體檢查顯微鏡


重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯MX63 / MX63L半導體檢查顯微鏡產品功能:

  • Leading-Edge Analysis Tools
  • Advanced Designed to Support Cleanroom Conformity

Leading-Edge Analysis Tools

The MX63 series’ versatile observation capabilities provide clear, sharp images so users can reliably detect defects in their samples. New illumination techniques and image acquisition options within OLYMPUS Stream image analysis software give users more choices for evaluating their samples and documenting their findings.


The Invisible Becomes Visible: MIX Observation and acquisition

MIX observation technology produces unique observation images by combining darkfield with another observation method, such as brightfield, fluorescence, or polarization. MIX observation enables users to view defects that are difficult to see with conventional microscopes. The circular LED illuminator used for darkfield observation has a directional darkfield function where only one quadrant is illuminated at a given time. This reduces a sample’s halation and is useful for visualizing a sample’s surface texture.

Structure on semiconductor wafer

Structure on semiconductor wafer - Brightfield

Plus

Structure on semiconductor wafer - Darkfield

Arrow

Structure on semiconductor wafer - MIX

The IC pattern is unclear.

The wafer color is invisible.

Both the wafer color and IC pattern are clearly represented.


松創建全景圖像:即時MIA

通過多個圖像對齊(MIA),用戶只需在手動平臺上移動KY旋鈕即可快速輕松地將圖像拼接在一起 - 無需電動載物臺。OLYMPUS Stream軟件使用模式識別生成全景圖像,為用戶提供更廣闊的視野。

輕松創建全景圖像:即時MIA

即時MIA圖像的硬幣


創建所有焦點圖像:EFI

OLYMPUS Stream中的擴展聚焦成像(EFI)功能可捕獲高度超出物鏡焦點深度的樣品圖像,并將它們堆疊在一起以創建一個全部聚焦的圖像。EFI可以使用手動或電動Z軸執行,并創建高度圖以便于結構可視化。在Stream Desktop中離線時也可以構建EFI圖像。

創建所有焦點圖像:EFI

螺柱在IC芯片上凸起


使用HDR捕獲明亮和黑暗區域

使用上等圖像處理,高動態范圍(HDR)可調整圖像內亮度的差異,從而減少眩光。HDR改善了數字圖像的視覺質量,從而有助于生成具有專業外觀的報告。

使用HDR 01捕獲明亮和黑暗區域

箭頭

使用HDR 01捕獲明亮和黑暗區域

使用HDR 02捕獲明亮和黑暗區域

箭頭

使用HDR 02捕獲明亮和黑暗區域

有些地方很刺眼。

HDR明顯暴露出黑暗和明亮的區域。

由于濾色器的亮度,TFT陣列變黑。

TFT陣列由HDR曝光。


從基本測量到上等分析

測量對質量和過程控制和檢查至關重要。考慮到這一點,即使是入門級的OLYMPUS Stream軟件包也包含一整套交互式測量功能,所有測量結果都保存在圖像文件中以供進一步記錄。此外,OLYMPUS Stream Materials Solution為復雜的圖像分析提供了直觀,面向工作流程的界面。只需單擊一個按鈕,即可快速準確地執行圖像分析任務。通過顯著減少重復任務的處理時間,操作員可以專注于手頭的檢查。

從基本測量到上等分析01

基本測量(印刷電路板上的圖案)

從基本測量到上等分析02

投擲電源解決方案(PCB通孔的橫截面)

從基本測量到上等分析03

自動測量解決方案(晶圓結構)



重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯MX63 / MX63L半導體檢查顯微鏡產品畫面質量:

**的光學性能:波前像差控制

物鏡的光學性能直接影響觀察圖像的質量和分析結果。奧林巴斯UIS2高倍率物鏡旨在*大限度地減少波前像差,提供可靠的光學性能。

**的光學性能:波前像差控制01

壞波鋒


**的光學性能:波前像差控制02

良好的波前(UIS2目標)

一致的色溫:高強度白色LED照明

MX63系列采用高強度白光LED光源,用于反射和透射照明。無論強度如何,LED都能保持一致的色溫,從而獲得可靠的圖像質量和色彩再現。LED系統提供高效,長壽命的照明,是材料科學應用的理想選擇

一致的色溫:高強度白色LED照明01

顏色隨光照強度而變化。

一致的色溫:高強度白光LED照明02

顏色與光強度一致,比鹵素更清晰。
*使用自動曝光拍攝的所有圖像


**測量:自動校準

與數字顯微鏡類似,使用OLYMPUS Stream軟件時可以進行自動校準。自動校準有助于消除校準過程中的人為變化,從而實現更可靠的測量。自動校準使用一種算法,該算法可從多個測量點的平均值自動計算正確的校準。這可以*大限度地減少不同運營商引入的差異,并保持一致的準確性,從而提高定期驗

**測量:自動校準


清晰的圖像:圖像陰影校正

OLYMPUS Stream軟件具有陰影校正功能,可適應圖像角落的陰影。與強度閾值設置一起使用時,陰影校正可提供更**的分析。

半導體晶圓(二值化圖像)

清晰的圖像:圖像陰影校正

右圖:陰影校正可在整個視野范圍內產生均勻照明。


重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯MX63 / MX63L半導體檢查顯微鏡產品技術規格:




MX63 MX63L
光學系統 UIS2光學系統(無限遠校正系統)
顯微鏡框架 反射光照明 白光LED(帶光強度管理器)12 V 100 W鹵素燈,100瓦汞燈
明場/暗場/鏡子立方體手動轉換。(鏡面立方體是可選的。)
通過手動操作改變3個位置編碼鏡單元
內置電動孔徑光闌(每個物鏡的預設置,暗場自動全開)
觀察模式:明場,暗場,差分界面對比度(DIC)* 1,簡單偏光* 1,熒光* 1,紅外* 1和MIX觀察(4方向暗場)* 2
* 1可選鏡面立方體,* 2需要MIX觀察配置
透射光照明 透射光照明單元:需要MX-TILLA或MX-TILLB。
- MX-TILLA:冷凝器(NA 0.5)和孔徑光闌
- MX-TILLB:聚光器(NA 0.6),孔徑光闌和場
光源光源:LG-PS2(12 V,100 W鹵素燈)光源指南:LG-SF
觀察模式:明場,簡單偏光
焦點 行程:32 mm
每轉精細行程:100μm
*小刻度:1μm
上限止動器和粗手柄的扭矩調節
*大載重(包括舞臺和支架) 8公斤 15公斤
觀察管 寬視場(FN 22 mm) 直立和三目:U-ETR4
直立,傾斜和三目:U-TTR-2
倒置和三目:U-TR30-2,U-TR30IR(用于紅外觀察)
倒置和雙目:U-BI30-2
倒置,傾斜和雙目:U-TBI30
超寬視場(FN 26.5 mm) 直立,傾斜和三目:MX-SWETTR(光路切換100%(目鏡):0(相機)或0:100%)
直立,傾斜和三目:U-SWETTR(光路切換100%(目鏡):0(相機)或20%:80%)
倒置和三目:U-SWTR-3
電動物鏡轉換器


電動六倍與滑塊槽,用于DIC:U-D6REMC
電動centerable五元組具有用于DIC的滑塊槽:U-P5REMC

Brightfield和darkfield
電動六倍,帶有用于DIC的滑塊插槽:U-D6BDREMC
電動五元組,帶有用于DIC的滑塊插槽:U-D5BDREMC
電動可中心五元組,帶有用于DIC的滑塊插槽:U-P5BDREMC

階段(X×Y)

帶有內置離合器驅動器的同軸右手柄:MX-SIC8R
行程:210 x 210 mm
透射光照射面積:189 x 189 mm

帶有內置離合器驅動器的同軸右手柄:MX-SIC6R2
行程:158 x 158 mm
(僅反射光)

帶有內置離合器驅動器的同軸右手柄:MX-SIC1412R2
行程:356 x 305 mm
透射光照射面積:356 x 284 mm
重量 約。35.6kg(顯微鏡框架26kg) 約。44kg(顯微鏡框架28.5kg)

重慶汗丁直銷olympus奧林巴斯MX63 / MX63L半導體檢查顯微鏡產品應用:

MX63系列用于各種反射光顯微鏡應用。這些應用程序是系統用于工業檢查的一些方法的示例。


電極部分的紅外圖像

電極部分的紅外圖像

紅外(IR)用于尋找IC芯片和玻璃上硅制成的其他器件內部的缺陷。


電影(左:明場/右:偏光)

電影
(左:明場/右:偏光)

偏振光用于揭示材料的紋理和晶體的狀態。它適用于檢查晶圓和LCD結構。


硬盤(左:明場/右:DIC)

硬盤
(左:明場/右:DIC)

差分干涉對比度(DIC)用于幫助查看具有微小高度差異的樣本。它非常適用于檢查具有非常微小高度差異的樣品,如磁頭,硬盤介質和拋光晶圓。


半導體晶圓上的IC圖案(左:暗場/右:MIX(明場+暗場))

半導體晶圓上的IC圖案
(左:暗場/右:MIX(明場+暗場))

暗場用于檢測樣品上的微小劃痕或瑕疵,或檢查具有鏡面的樣品,例如晶片。MIX照明使用戶可以查看圖案和顏色。


半導體晶片上的光致抗蝕劑殘留物(左:熒光/右:MIX(熒光+暗場))

半導體晶片上的光致抗蝕劑殘留物
(左:熒光/右:MIX(熒光+暗場))

熒光用于使用特殊設計的濾光片立方體照射時發光的樣品。這用于檢測污染物和光致抗蝕劑殘留物。MIX照明使得能夠觀察光致抗蝕劑殘留物和IC圖案。


LCD彩色濾光片(左:透射光/右:MIX(透射光+明場))

LCD彩色濾光片
(左:透射光/右:MIX(透射光+明場))

該觀察技術適用于透明樣品,例如LCD,塑料和玻璃材料。MIX照明使得能夠觀察濾光器顏色和電路圖案。



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