DLS動態光散射技術是非常成熟的N3表征技術,可用于測量納米體系混懸液的粒度及粒度分布。穩定的激光光源照射布朗運動的納米顆粒,將致使散射光強發生波動,光電二極管檢測器獲得這些波動后,通過斯托克斯-愛因斯坦方程可得出粒度信息。DLS只需少量樣品即可完成分析,快速、精確、重復性好,是目前應用的N3粒度測量方法。Vasco Kin原位納米粒度監測儀以廣為熟知的DLS動態光散射技術為基石,集成了穩定的光學單元、靈敏的光電二極管檢測器和靈活的非浸入式探頭,結合專用的分析軟件和數學模型,是一款針對各類型納米體系中的顆粒尺寸原位監測系統。
與傳統DLS相比,Vasco Kin原位納米粒度監測儀顯著增大了樣品濃度范圍和粒度的測量范圍。Vasco Kin原位納米粒度監測儀不但保持了傳統DLS動態光散射儀器的高靈敏度和寬適應性,還開創性地采用了非浸入式遠程探頭,將DLS技術帶入原位過程監測的廣泛應用場景,并增加了創新的時間關聯功能。
原位納米粒度監測儀特點:
流體動力學分析
高速數據采集,實時數據處理
集成化程度高,無運動部件,維護和使用成本低
模塊化設計,可更換探頭,一機多能,一機多用
測試靈活,可根據樣品濃度及透光性調整工作距離和散射角
時間切片,可選取監測曲線中的任意時間段進行粒徑分析
超低延時,無需頻繁采樣,原位監測納米顆粒的變化過程
操作簡便,非浸入式探頭,無需批量稀釋,無需樣品預處理
適用性好,配備背散射技術,原濃或深色的不透明樣品同樣適用
應用領域:
實時監控納米顆粒合成工藝、提高懸浮穩定性等
原位測量(在反應器、高壓滅菌器、密封小瓶等裝置內部進行測量)
將粒度測量與其他光譜法(X 射線小角散射、小角中子散射、拉曼光譜法、紫外-可見光譜法等) 相結合.