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  • Leica EM ACE200/600 真空鍍膜儀

Leica EM ACE200/600 真空鍍膜儀

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地深圳市
  • 更新時間2025-04-20
  • 廠商性質其他
  • 所在地區深圳市
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  • 產品數量40
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Leica EM ACE200/600 真空鍍膜儀 產品詳情

Leica EM ACE200

濺射和碳絲蒸發鍍膜,獲得的可重復性鍍膜

Leica EM ACE200是一款高品質臺式鍍膜儀,用來制備電子顯微鏡所需的均勻的金屬導電膜或碳膜。這款自動化設備既可以配置成濺射鍍膜儀又可以配置成碳絲蒸發鍍膜儀。或者,根據需要,Leica EM ACE200 可以在一臺設備上裝配可調換鍍膜源,實現兩種鍍膜方式。

另外,可選配的功能有:

  • 石英片膜厚監控-用于制備可重復性鍍膜
  • 行星旋轉樣品臺-用于對裂紋型樣品噴鍍均勻鍍膜
  • 輝光放電功能-使TEM網格親水化

 

Leica EM ACE600

高真空鍍膜儀 – 配置您的鍍膜體系 – 我們鑄造您真正需要的鍍膜儀

Leica EM ACE600 是一款多功能型高真空鍍膜系統,用于制備超薄,細顆粒的導電金屬膜和碳膜,以適用于 FE-SEM 和 TEM 超高分辨率分析所需的鍍膜要求。這一款全自動臺式鍍膜儀,包含內置式無油真空系統,石英膜厚監控系統和馬達驅動樣品臺(旋轉為標配 ,傾斜和高度馬達驅動為選配)。

Leica EM ACE600 可以配置如下鍍膜方式:

  • 金屬濺射鍍膜
  • 碳絲蒸發鍍膜
  • 碳棒蒸發鍍膜(帶有熱阻蒸發鍍膜選配件)
  • 電子束蒸發鍍膜
  • 輝光放電
  • 連接VCT樣品交換倉,與徠卡EM VCT配套實現冷凍鍍膜,冷凍斷裂,雙復型,冷凍干燥和真空冷凍傳輸

 

LEICA EM ACE600技術參數

可任選離子濺射模式,碳絲蒸發鍍碳模式,碳棒(熱阻)蒸發模式,電子束蒸發模式,雙濺射模式,濺射-碳絲模式,濺射-碳棒模式,濺射-電子束模式,雙電子束模式,可兼容EM VCT500冷凍傳輸系統,可選輝光放電(用于網格表面親水化)

設計脈沖式碳絲蒸發方式,可精確控制碳膜厚度

內置石英膜厚檢測器,精確控制鍍膜厚度,精度達0.1 nm

全自動程序控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等過程

觸摸屏控制,簡單方便

采用隔膜泵+渦輪分子泵,無油真空系統,真空度2 X 10-6 mbar

濺射電流: 0-150 mA可調

方形樣品倉設計,樣品倉尺寸: 200mm (寬) X 150mm (深) X 195mm (高)

樣品臺內置旋轉,工作距離調節范圍: 30mm-100mm

 

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