的解決方案
Leica EM RES102是一款的離子束研磨設備，帶有兩個鞍形場離子源，離子束能量可調，以獲得離子研磨結果。這一款獨立的桌面型設備集 TEM，SEM和LM樣品制備功能于一體，這與市面上其它設備截然不同。除了高能量離子研磨功能外，徠卡EM RES102還可 用于低能量極溫和的離子束研磨過程。
- TEM 樣品：
- 單面或雙面離子束研磨適用于材料的離子束減薄過程。鞍形場離子源可獲得很大的電子束透明薄區。
- 程序化控制的離子入射角度變化，適用于完成特殊的樣品制備目的，例如FIB樣品清潔，以減少無定形非晶層。
- SEM 或 LM 樣品：
- 離子束拋光拋光區域可達25mm。
- 離子束清潔適用于對樣品表面污染層或機械拋光后表面產 生的涂抹層進行清潔。
- 樣品表面襯度增強作用，可替代化學刻蝕作用。
- 35°斜坡切割用于制備多層樣品的截面。
- 90°斜坡切割用于制備復合結構的半導體樣品或組裝器件，這種方式所需的機械預加工工作最少。
為了支持多樣化的應用需求，Leica EM RES102 可以裝配各種樣品臺以適用于TEM，SEM及LM 樣品制備。預抽室系統實現樣品快速交換，從而可有效提高樣品交換效率 。
帶給您的好處
Leica EM RES102 可對樣品進行離子束減薄，清潔，截面切割，拋光以及襯度增強，這極大滿足了您對應用需求的多樣化和便利性。
- 操作簡便
- 19”觸摸屏電腦控制單元，監控并記錄制樣過程
- 內置應用參數庫
- 程序化制樣參數設定，加速初學者學習曲線
- 幫助文件幫助初學者以及對設備進行維護
- 高效/節約成本
- TEM，SEM和LM應用功能集于一體
- TEM樣品制備獲得的薄區大，有效提高了TEM樣品制備效率
- SEM樣品制備可達25mm樣品直徑
- 預抽室系統幫助快速交換樣品，減少等待時間，并保證了樣品室的持續高真空
- 局域網功能方便遠程操控
- LN2樣品臺使得溫度敏感型樣品可在優化條件下進行離子研磨
- 安全
- 精確的自動終止功能，適用于光學終止或透明樣品的法拉第杯終止
- 在制樣過程中可以時時存儲活圖像或視頻
- 離子源和樣品運動馬達驅動，程序化控制，因而可獲得重復性制樣結果
主要功能
對無機薄片樣品進行離子減薄，使得薄片樣品可被透射電子穿過，從而適宜TEM透射電子顯微鏡觀察；對無機塊狀樣品進行離子束拋光、離子束刻蝕，樣品表面離子清洗及斜坡切割，便于SEM掃描電子顯微鏡觀察樣品內部結構信息。
優異性價比
一臺設備即可為TEM、SEM、LM電鏡檢測提供試樣，多種應用功能集于一體，高效并節約成本安全；所有機械控制、樣品移動實現全自動化，可獲得重復性制樣結果分段冷卻；對溫度敏感樣品得到充分保護，在優化條件下進行離子研磨，保持樣品的原生態操作簡便；內置應用參數庫，幫助文件，無論是初學者還是后期維護都十分簡單。
| 儀器參數 | ||
|---|---|---|
| 離子源 | 離子槍 | 兩把鞍形場離子槍，離子研磨區域大 |
| 離子能量 | 0.8 kev 至 10 kev (0.1keV每步) | |
| 離子束流 | 4.5 mA （每把離子槍） | |
| 離子束流密度 | 8kV/3mA條件下約1mA/cm2（每把離子槍） | |
| 離子束半高寬FWHM | 10keV 條件下0.8mm，2keV 條件下2.5mm | |
| 使用氣體 | 氬氣 (Ar 5.0) 進氣氣壓 500 mbar | |
| 氣體流速 | 每把離子槍小于1 sccm，自動控制 | |
| 傾斜角度設定（電腦控制） | 離子槍1傾斜 | ± 45°（精確度為0.1°） |
| 離子槍2傾斜 | ± 45°（精確度為0.1°） | |
| 樣品臺傾斜范圍 | –230° 至 100°（精確度為0.1°） | |
| 離子研磨角度范圍 | –90° 至 90° (角度與不同樣品臺有關) | |
| 樣品移動范圍（電腦控制） | 旋轉速率 | 0.6 至 10 rpm |
| 擺動范圍 | 360°，每步1° | |
| 零位設置 | 每步1° | |
| X方向移動 | ±5mm，精確度0.1mm | |
| 傾斜范圍 | -230°至 100° | |
| 裝載樣品尺寸 | SEM樣品臺樣品尺寸 | Ø 25 mm × 12 mm |
| SEM樣品臺離子研磨區域 | Ø 25 mm | |
| TEM和FIB樣品臺樣品尺寸 | Ø 3 mm 或 Ø 2.3 mm | |
| SEM薄片樣品臺樣品尺寸 | 5 mm (H) × 7 mm (W) × 2 mm (D) | |
| SEM斜坡切割樣品臺樣品尺寸 | 5 mm (H) × 5 mm (W) × 3 mm (D) | |
| 冷凍裝置 （選配） | 自動液氮制冷接觸裝置 | |
| 自動加熱裝置避免潮濕污染樣品 | ||
| LN2 消耗量 約0.6L/h | ||
| 操作控制（用戶界面） | Windows 7操作系統，19英寸觸摸屏電腦控制 | |
| 具有局域網遠程控制和監視功能 | ||
| 內置應用程序庫 | ||
| 可個性化修改和存儲離子研磨參數，單個程序使用或者組合程序序列 | ||
| 真空系統 | 無油真空系統，＜1×10-5mbar，配置4段式隔膜泵和渦輪分子泵（70 L/s） | |
| 配置預抽真空室，樣品交換時間小于1分鐘 | ||
| 真空檢測 | 全程范圍真空檢測，Pirani真空計檢測低真空，冷陰極檢測高真空 | |
| 觀察系統 | 數字CMOS彩色攝像頭，帶自動放大觀察功能，自動光圈調整和自動聚焦 | |
| 可實時存儲圖像和錄像 | ||
| 離子束感光功能（偽彩色圖像），用于精確調整離子槍對中 | ||
| 自動終止離子束加工過程 | 通過時間終止 | |
| 對于不透明樣品的光學終止 | ||
| 對于不透明和透明樣品的法拉第杯終止（選配） | ||
| 電氣參數 | 電壓 | 90至260 VAC, 50/60 Hz |
| 功率 | 400 W | |
