光刻膠低溫存儲高低溫一體機專為半導體光刻膠研發的高精度溫控設備，通過 -20℃~200℃寬溫域精準控溫實現光刻膠存儲、運輸及使用前處理的全流程溫度穩定控制。可將光刻膠存儲期間的粘度波動控制在 ±2% 以內，溶劑揮發率降低至≤0.5%，助力晶圓廠、光刻膠供應商及實驗室實現材料壽命延長 30%、工藝穩定性提升 25% 的目標。

應用場景

1. 晶圓廠材料存儲與管理

   核心需求：原材料入廠檢測與生產過程質量控制。

   設備價值：

• 壽命延長：某晶圓廠通過 5℃±0.1℃恒溫存儲，將光刻膠保質期從 12 個月延長至 18 個月，年材料成本降低 200 萬元。

• 工藝穩定：濕度控制在 40%±2%，某產線的套印精度從 ±0.12mm 提升至 ±0.05mm，良率提高 9%。

2. 光刻膠供應商質量管控

   核心需求：出廠檢測與運輸過程監控。

3. 設備價值：

• 快速篩選：某供應商通過 - 15℃低溫存儲測試，篩選出粘度穩定性提升 30% 的光刻膠，客戶投訴率降低 70%。

• 運輸保障：磁懸浮減震設計使運輸損耗從 3% 降至 0.8%，某物流企業年運輸成本節省 15%。