● 近紅外外透射反射觀察用顯微鏡
● 5X到10X紅外鏡頭,像差校正本涵蓋從可見光到近紅外整個波段
● 晶圓，化合物半導體的內部，封裝芯片內部以及CSP bump觀察適宜
BX
１、UIS無限遠校正光學系統，提供出銫的圖像質量
２、人機工程學的進一步改善，使操作更為舒適
３、多種高度功能化的附件，能滿足各種檢驗需要
透反兩用研究系統顯微鏡，涵蓋所有觀察方式
新的光路設計， 12V/100W 光源
明場，暗場，偏光，微分干涉相襯，熒光觀察方式可選
可連接多種膠片或數字照相系統
使用*物鏡實現明場、暗場、熒光、微分干涉、偏光的各種觀察
*的明視野顯微鏡圖像質量
優秀的熒光觀察功能， 100W 汞燈的有效光強比原來增加一倍
解像度和對比度鮮明的諾曼斯基微分干涉襯比法觀察
放大倍率 50×～1000×
高剛性的 Y形鏡體結構提供 *的穩定性及系統靈活性
易于連接數碼照相及視頻成像設備
| 奧林巴斯金相顯微鏡BX51M技術規格表: | |
| 光學系統 | UIS 無限遠，明場，暗場，偏光，微分干涉，熒光 |
| UIS 目鏡 10X（視野數 20 ） | |
| UIS 物鏡 5X，10X，20X，50X，100X（干） | |
| 調焦機構 | 載物臺上下行程為 25mm |
| 物鏡轉盤 | 5 孔轉盤 |
| zui大標本高度 | |
| 反射光照明 | 內置透射光柯勒照明 |
| 鏡筒 | U-CTR30-2 三目鏡筒 |
| 載物臺 | 鍍陶瓷同軸載物臺 |
