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低溫恒溫槽 應用范圍：

對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。

其他產業用機器發熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。

分析檢測機器的發熱部分的冷卻：電子顯微鏡的光源、ICP發光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調幅器的發熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用優質的純凈水在機內外循環冷卻，可保證對水質要求較高的精密儀器的正常運行，延長精密儀器的使用壽命。

低溫恒溫槽 特點：

●全封閉壓縮機組制冷,制冷系統具有過熱、過電流多重保護裝置。

●循環泵可以把槽內被恒溫液體外引,建立第二恒溫場。

●槽內冷液可外引,冷卻機外實驗容器,也可在槽內直接進行低溫、恒溫實驗

●采用XMT模擬數字PID自動控制系統，溫度數字顯示。

●內膽、臺面均為全不銹鋼，清潔衛生，美觀耐腐蝕。

●DCW系列為臥式,便于置于操作臺內。

低溫恒溫槽 應用：

低溫水槽廣泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫藥衛生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門，高等院校，企業質檢及生產部門，為用戶工作時提供一個熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試，也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。