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一、CMOS全譜光譜儀技術特點

1、儀器光學系統采用帕型-龍格裝置，高真空，分辨率高、靈敏度高等特點；由于機刻光柵可以產生較好的光譜，所以選線更具靈活性，從而避免光譜干擾；

2、儀器結構設計合理，電子系統高度集成化電路，故障率低；

3、分析速度快、重復性好、穩定性好；

4、可用于多種基體分析： Fe、Co、Cu、Ni、Al、Pb、Mg、Zn、Sn等；

5、采用純中文Windows系統下的操作軟件，操作簡單易懂；

6、計算機軟件建有數據庫系統，方便了測量數據的查詢與打印，也可通過網絡遠程傳輸數據，方便快捷；

7、各項系統獨立供電，組成單元，使用方便，維護簡單；

8、采用光學部分恒溫措施，保證了儀器的正常運行，從而降低了對環境的要求；

9、加、改變元素通道，通過軟件設置就可以，無須添加任何硬件，省心、省時、省錢

10、分析速度快捷，30秒內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設置預燃時間及標線，使儀器用較短的時間達到好的分析效果；

11、光譜儀光學系統采用真空、恒溫光室， 激發時產生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實現光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結果準確，重現性及長期穩定性較佳；

12、自動光路校準，光學系統自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定；

13、開放式的電極架設計，可以調整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；

14、工作曲線采用標樣，預做工作曲線，可根據需要延伸及擴展范圍，每條曲線由多達幾十塊標樣激發生成，自動扣除干擾；

15、激發能量、頻率連續可調全數字固態光源，適應各種不同材料；

16、固態吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩定性；

17、合理的氬氣氣路設計，使樣品激發時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；

18、高性能DSP及ARM處理器，具有超高速數據采集及控制功能并自動實時監測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發室等模塊的運行狀況。

二、CMOS全譜光譜儀參數

2.1光學系統

光學結構：帕邢-龍格結構的全譜光學系統

波長范圍：160-680nm

光柵焦距：350nm

光柵刻線：3600/mm

一級光譜線色散率：1.1 nm/mm

光電檢測器：多塊高性能線陣CMOS

2.2 激發臺

本激發臺采用沖氬式，噴射式電極結構，帶有自動吹掃功能。激發臺開孔尺寸13mm。

2.3 激發光源

類型：全數字式火花激發光源

頻率：100-1000Hz

放電電流：脈沖1-400A

2.4 數據采集系統

ARM處理器，高速數據同步采集處理，基于DM9000A的以太數據傳輸。