1、用途：主要用微細加工、半導體、微電子、光電子和納米技術工藝中在硅片、陶瓷片上勻膠等工藝與光刻、烘烤等設備配合使用。設備能滿足各類以下尺寸的基片處理要求，并配制相應的托盤夾具。驗收除按賣方提供的標準基片外，另外可根據買方要求的 10mm 的碎片和 4 英寸的晶圓片等驗收試驗要求。

2、特點：

（1）外觀整潔、美觀，占地面積小，節省凈間的使用面積；（2）材質易于清洗和維護，設備結構布局合理，用戶操作、使用、維

修方便；（3）采用成熟、的系統結構方式，確保設備工作的性；

（4）設備具備高性能、低故障率、長使用壽命、易操作維修、造型美觀、售后服務完備。

二、 設備配置明細

設備具體配置如下

POS. QTY. PART DESCRIPTION

項目號 數量 部件名稱 描述

1 1 勻膠機主機 WS?650Mz?23NPPB

勻膠機主機

2 1 真空泵 Vacuum Pump Rock300

配套真空泵浦 Rock300

3 1 真空托盤 Spinner Chuck 50~150mm

勻膠托盤 50~150mm

4 1 真空托盤 Spinner Adapter 10~50mm

勻膠轉接托盤 10~50mm

5 1 系統附件 含密封圈若干、標準樣片、水平儀、連接管

若干

6 1 操作軟件 Spin 3000 Software

Spin 3000 操作軟件

7 1 安裝文檔 Installation Documents

安裝文檔

三. 設備技術資料

勻膠機臺

1． 系統概述

1.1智能嵌鎖，系統蓋板具有智能嵌鎖裝置，確保操作；

1.2防腐裝置；

1.3*設有保護氣體裝置：旋涂過程中對旋轉馬達進行氣流保護；

1.4通信接口，藍牙連接

2． 處理腔體

2.1處理腔體內徑不小于 9.5 英寸 (241 毫米)；

2.2* Wafer 芯片尺寸至少滿足10?150mm 直徑的材料，方片125x125mm，

無需更換片托；

2.3腔體具有易清潔的 NPP 天然聚丙烯材質；

3． 旋轉馬達

3.1轉動速度至少滿足 0?12,000rpm，

3.2旋涂加速度不小于 12,000rpm/sec；

3.3馬達旋涂轉速穩定性能誤差不過±1%；4． 控制系統

4.1工藝時間設定范圍至少滿足 1?5999.9 sec/step ，精度不過 0.1s；

4.2配有高精度 PLC 可編程的控制器，設置點精度小于 0.006%；

4.3可存儲不少于 20 個程序段，每個程序段可設置不少于 51 個不同步驟的速度狀態；

4.4*分辨率要小于 0.5RPM，重復性誤差要小于±0.5RPM，具有標準，并且無需再校準；

5． 配套泵浦

5.1配套真空泵系統：無油型 220~240 伏交流，50/60 赫茲；

5.2真空吸附范圍 25?28 英寸柱 (~635?711 毫米柱)可調節，抽速不小于 4.5 SCFM (0.11 立方米/分鐘) ；

6． 系統附件

6.1*贈送基于 Windows 的操作軟件；

6.2水平測試儀；

6.3兩袋密封圈；

*配有兩套可更換的廢液接收單元；

四.設備運行條件

4?1．設備外圍條件要求

1. 環境要求

a) 無塵室 1000 級或者

b) 溫濕度 溫度：22±3°C°C

濕度：45 ~ 70%

c) 安裝維護距離 與其他設備或者墻面距離≥30cm

d) 設備尺寸以及重量 長寬高：420mm x 380 mm x 290mm

重量：15kg

2. 電力要求 220 V±10%, 16 A, 50 Hz

3. 動力要求

a) 真空 25~28 Inches Hg

b) 氮氣 60?70 PSI

c) 干燥空氣 60?70 PSI

五.售后服務

5?1. 設備保修期為設備驗收合格后 1 年(保修期內提供非人為因素損

壞的備件及服務)，并長期提供技術支持。

5?2 機器發生故障時,供方在 24 小時內明確回復。

5?3 如果未能解決問題,供方工程師應在 2 個工作日內與用方達成故障解決

方案。

5?4 設備保修期內，損壞的備件原則上賣方應在 1 個工作日內明確回復備

件的交貨期限。并當供方倉庫有備件庫存時,在 1 個工作日內寄出。

5?5 保修期結束后，供方應在收到買方定單后 1 個工作日內明確回復備件

的交貨期限。

5?6 保修期結束后，供方應優惠供應相關備件。涉及的相關技術服務盡量

解決，不可避免的收費項目，賣方應提供優惠，屆時協商解決。

5?7 供方承諾向用方長期優惠供應設備相關的耗材。

5?8 售后服務，人員安排由雙方協商確定。

5?9 針對中國客戶操作員頻繁更換的特點，公司每年提供所在城市的設備巡檢服務，檢查設備潛在故障和隱患，培訓新操作人員。