低溫恒溫反應浴又稱為“低溫恒溫槽"、“低溫恒溫水槽"、“低溫浴槽"、“低溫反應浴"、“低溫槽"、“冷阱"、“低溫恒溫反應槽"等，低溫恒溫反應浴適用于科研、生物、物理、醫藥、化工等部門進行低溫實驗，巴立低溫恒溫槽可代替干冰、液氮做低溫反應，或為相關試驗設備提供低溫條件，低溫恒溫反應浴又可以做為低溫浴槽完成運用粘度的測試。

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ＧＤＨ系列高精度低溫恒溫槽是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源，可在機內水槽進行恒溫實驗，或通過軟管與其他設備相連，作為恒溫源配套使用。廣泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫藥衛生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門，高等院校，企業質檢及生產部門，為用戶工作時提供一個熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試，也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。

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高精度低溫恒溫槽  主要特點:

●數顯分辨率0.001℃，溫度波動度±0.005℃～±0.02℃可選

●法國泰康全封閉壓縮機制冷，Z低溫度可達-80.000℃

●具有循環泵，可建立機外第二恒溫場或冷卻機外第二實驗容器

●溫度測量值偏差可修正，溫度數顯精度可達0.01℃

●具有自整定智能PID控制功能

●上下限溫度報警可設定

●帶W的為臥式,便于置于操作臺內

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高精度低溫恒溫槽  技術參數:

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適用范圍：

既可以單獨使用，也可以與其他容積或者試驗儀使用。旋轉蒸發儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發酵罐、化學反應器（合成器）等。材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統、原子沉積系統等。醫療領域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、*機、科研冷帽、降溫毯等等。物化領域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。
產品特點：
節約能源——在夏季和高環境溫度下，冷卻水可在系統回路中循環使用，節約大量的水資源。
效率更高——一臺循環水設備可同時滿足多臺外部設備的冷卻需求，持續提供低溫恒溫水源，適用于冷凝實驗。
控溫精度——PID控溫技術，內置PT100傳感器、控溫精度高，溫度數字顯示，操作直觀
安全性高――具有自我診斷功能；冷凍機過載保護等多種安全保障功能。
低溫不凍液配比
A乙二醇水溶液：乙二醇/水55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）
B丙三醇水溶液：丙三醇/水70/30 （－30℃）使用中需經常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不凍液用水代替時，其Z低溫度必須在0℃以上。
冷卻水選型相關：通常，制冷能力在1000W以下機型小型循環水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器、平行蒸發儀、平行定量濃縮儀、平行反應器、蒸餾儀等實驗室冷凝裝置等。制冷能力在6000W以下中型循環水冷卻恒溫器廣泛應用于AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業，旋轉蒸發儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實驗室設備，激光打標機、激光切割機等激光儀器及機床行業。制冷能力在10KW以上大型循環水冷卻恒溫器廣泛應用于X－衍射儀、磁質譜儀、疲勞試驗機、真空鍍膜機、塑料成形設備、激光切割機、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設備。