高效多晶硅錠研究歷史

如果說無錫尚德是太陽能電池技術人員的培養基地的話，那么賽維就是鑄錠行業的黃埔軍校。目前國內各個鑄錠廠都有賽維出身的生產技術人員，之所以出現這種局面，除了賽維在鑄錠行業起步較早之外， 是因為賽維有一位鑄錠行業的——萬躍鵬博士。
目前在國內流行的鑄高效錠工藝，就是萬躍鵬博士帶領他的研發團隊于2011年底研發出來的，但是在研發出這種鑄高效錠工藝之前，賽維技術研究院花了大量的人力物力財力進行了大量的實驗，可以說賽維不僅為國內鑄錠行業培養了大量的人才，也為國內鑄錠工藝的進步做出了巨大的貢獻。

高效多晶硅錠未來的研發方向

1、類單晶

2010年，國內以賽維、晶海洋、浙江大學等為代表的企業與學校掀起了一股研究鑄硅單晶的熱潮，類單晶硅片與硅塊如上圖所示，但是由于類單晶晶粒較大，較大的晶粒導致了較大的應力，無法釋放的應力導致在類單晶中產生了大量的T型位錯與小角度晶界，而且從底部到頂部，T型位錯與小角度晶界呈現這么一種規律：從底部到頂部位錯逐步增加，這種規律導致了類單晶硅錠底部的硅片效率與單晶相當，頂部硅片的效率甚至低于普通硅片，類單晶硅片效率分布如下圖4所示。由于效率分布區間從16%一直到17.7%，且有50%的電池片效率低于17%，因此，電池生產企業無法接受這種硅片，因為這意味著有接近一半的電池片無法銷售。

但是只要我們解決了這個位錯從底部到頂部逐步增值的這個問題，那么類單晶將會展現強大的生命力，因為這意味著類單晶整體效率和單晶相當了。

2、高效坩堝

高效坩堝在2013年曾經掀起了一個小高潮，其機理如下圖所示，在普通坩堝底部形核的晶粒生長方向雜亂無序，晶粒之間相互碰撞會產生位錯；而高效坩堝底部由于有很多二氧化硅顆粒作作為形核點，會生成大量的小晶粒，小晶粒在生長過程中會有一個相互競爭的過程，位錯多的晶粒在生長過程中逐步消失，位錯少的晶粒趁勢越長越大，zui終吞并位錯多的晶粒。