價格電議
KRI 線性霍爾離子源 eH Linear
上海伯東代理美國* KRI 線性
離子源使用 eH 400 做為模組, 能應用于寬范圍的襯底, 離子源長度高達 1 米, 通過嚴格調整模組間的距離可以實現的均勻性和離子流. 由于模組是平行放置, 大大簡化了氣體, 功率和電子三者的分布. KRI 線性離子源使用標準的端部霍爾模組并使設備的需求簡化, 一個低成本, 高電流和低能量的離子束可以很好的使用于 web 涂層, in-line 沉積和圓柱旋轉濺射系統.
霍爾離子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直徑= 3.7“ 高= 3”
放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體
KRI 霍爾離子源 eH Linear 技術參數
型號 | eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5 |
供電 | DC magnetic confinement |
- 電壓 | 40-200V VDC |
- 陽極結構 | 模塊化 |
電源控制 | eHL-30010A |
配置 | - |
- 陰極中和器 | Filamentless |
- 離子束發散角度 | > 45° (hwhm) |
- 陽極 | 標準或 Grooved |
- 底座 | 移動或快接法蘭 |
- 高度 | 10 cm |
寬度 | 10 cm |
- 長度 | ~ 100cm |
-工藝氣體 | Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others |
Model | eHL 200-3 | eHL 200-5 |
Height (nominal) | 2.9” (7.4cm) | 2.9” (7.4cm) |
Width (nominal) | 3.3” (8.4cm) | 3.3” (8.4cm) |
Length (nominal) | Determined by number of modules & application | Determined by number of modules & application |
Cathode/Neutralizer | Yes | Yes |
Anode module | Yes | Yes |
Filamentless | Yes | Yes |
Orientation | Vertical / Horizontal | Vertical / Horizontal |
Process gases | Inert, reactive, & organic | Inert, reactive, & organic |
Power controller | eH Plasma Power Pack | eH Plasma Power Pack |
霍爾離子源 Gridless 提供高電流低能量 end-Hall 系列產品, 包含寬束霍爾離子源和電源控制器, 整體設計, 易于系統集成, 霍爾離子源典型應用: 輔助鍍膜 IABD, 鍍膜預清潔 ISSP, 離子蝕刻等
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產
考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理.
若您需要進一步的了解詳細產品信息或討論 , 請參考以下聯絡方式 :
上海伯東 : 羅先生
