Atonarp 過(guò)程控制質(zhì)譜儀 Aston™ 技術(shù)規(guī)格：

實(shí)時(shí)過(guò)程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝
半導(dǎo)體制造的分子分析原位平臺(tái), 提供實(shí)時(shí), 可操作的數(shù)據(jù)
采用等離子體電離源, 無(wú)燈絲, 更耐用
可與大批量生產(chǎn)工具*集成
Aston™ 過(guò)程質(zhì)譜分析儀作為一個(gè)強(qiáng)大的平臺(tái), 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供的控制水平, 包括光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.

Aston™ 過(guò)程質(zhì)譜分析儀技術(shù)參數(shù)

Atonarp  Aston™ 應(yīng)用: 半導(dǎo)體工藝過(guò)程控制和優(yōu)化的重大發(fā)展, 提高半導(dǎo)體制造工藝的產(chǎn)量, 吞吐量和效率
Aston™ 是一款全新設(shè)計(jì)堅(jiān)固耐用的緊湊型在線(xiàn)質(zhì)譜儀, 適用于半導(dǎo)體制造和工業(yè)過(guò)程控制應(yīng)用中氣體監(jiān)測(cè)和控制, 高定量精度和實(shí)時(shí)性與生產(chǎn)穩(wěn)健性和可靠性相結(jié)合, 例如半導(dǎo)體 dry pump 尾氣偵測(cè)分析, 實(shí)現(xiàn)在線(xiàn)監(jiān)控,診斷.
CVD / ALD: 氧化物-氮化物過(guò)渡及成分分析
Etch/ALE End Point :<0.3%
Chamber Matching:識(shí)別跟蹤分子


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