PD-3800L是一種能夠沉積硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)的鎖載等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統。
該系統由于采用了大型反應室,并通過載盤裝載多片晶圓進行批量處理,因此產量較高。在直徑360mm的區域內可以沉積出具有優異的厚度均勻性和應力控制的薄膜,具有優異的穩定性和可重復性。用戶友好的觸摸屏界面用于參數控制和配方存儲。該系統是大規模生產用薄膜沉積的理想選擇,具有優異的重復性。
主要特點和優勢
加工范圍:?360 mm (?3" x 9, ?4" x 6, ?6" x 3)
優異的均勻性和應力控制
的工藝穩定性和可重復性
堅固的系統,的運行/維護成本
用戶友好的觸摸屏界面,用于參數控制和配方存儲。
應用
SiH4-SiNx
SiH4-SiO2
液體前驅體(SN-2)SiNx。
TEOS-SiO2