等離子體輔助化學氣相沉積系統PECVD-片式與卷對卷式PECVD

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更新時間2023-01-06

北京伯英科技有限公司

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PECVD,支持定制，單片或卷對卷式PECVD

等離子體輔助化學氣相沉積系統PECVD-片式與卷對卷式PECVD 產品詳情

PECVD, 支持定制，單片或卷對卷式PECVD。

可用于沉積類金剛石、氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、氮化物、硫化物等類型薄膜。

可用于聚合物薄膜沉積。

可選13.56兆赫、20kHz等離子體。

片式PECVD參數：

真空度10^-3Pa，薄膜厚度：10nm-1um，溫度范圍：400攝氏度，基片大小：6英寸或根據用戶要求。設備尺寸：直徑350mm，高500mm。

價格35~55萬人民幣。

卷對卷式PECVD參數：

1分鐘100m，1.25m幅寬，卷厚度8um到50um，可用于食品包裝，起阻水阻氧作用。

參考價格500萬人民幣左右。

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