SCREEN單片式半導(dǎo)體清洗設(shè)備SU 3100具有8個內(nèi)置腔室，吞吐量能夠達到300wph。

在日益小型化的半導(dǎo)體行業(yè)中，線寬窄至65納米的器件的大規(guī)模生產(chǎn)已經(jīng)在進行中，于2008年開始的45納米加工設(shè)備的開發(fā)正在快速進行。由于這些原因，半導(dǎo)體制造商對占所有半導(dǎo)體制造工藝近四分之一的清潔工藝感到擔憂，他們正想辦法使用更有效、更高效的清潔設(shè)備。尤其是滿足需求的單晶圓清洗設(shè)備每年都在增加。

新型SU-3100旨在適應(yīng)半導(dǎo)體行業(yè)的整體趨勢。新型SU-3100是久經(jīng)驗證的SU-3000技術(shù)的一種改進，它擁有更高的晶圓傳輸速度，從而提高了清洗性能和生產(chǎn)效率。其新平臺可容納多達8個內(nèi)置腔室，新開發(fā)的高速晶圓傳輸系統(tǒng)使SU-3100每小時可處理多達300個晶圓。SCREEN還為不同用途開發(fā)了2種新型的多處理室，使SU-3100能夠滿足各種客戶的需求，包括對當今更為精細的圖案進行的高級處理。SU-3100還具有新的DDI（動態(tài)直接噴射）混合系統(tǒng)，該系統(tǒng)可實現(xiàn)高精度的流量控制，使SU-3100適用于當今日益多樣化的工藝，并可提高加工效率。此外，根據(jù)設(shè)備的預(yù)期用途和所需的化學(xué)溶液，客戶甚至可以選擇一體式系統(tǒng)，無需單獨配置化學(xué)溶液柜。