1.MP-2B無級(jí)調(diào)速式試驗(yàn)?zāi)仚C(jī)為雙盤臺(tái)式機(jī)，適用于對(duì)金相試樣進(jìn)行預(yù)磨、研磨和拋光操作。本機(jī)通過變頻器調(diào)速，可直接獲得50-1000轉(zhuǎn)/分鐘之間的轉(zhuǎn)速，從而使本機(jī)具更廣泛的應(yīng)用性，是用戶用來制作金相試樣必*的設(shè)備。
2..研磨盤直徑230mm,拋光盤直徑200mm,轉(zhuǎn)速50--1000轉(zhuǎn)每分鐘，帶冷卻裝置
金相實(shí)驗(yàn)設(shè)備及耗材
一.金相顯微鏡：
1倒置式金相顯微鏡 、顯微鏡主機(jī)：三目觀察鏡筒 、目鏡：10X目鏡（一對(duì)）
物鏡：10X、20X、40X、100X（油） 、濾片：藍(lán)、黃、綠 、光源：6V20W燈泡 、其 他配 件：樣品夾
2 .CCD鏡頭 影像制式：NTSC 解像度：768（H）＊494（V）
附加功能：快門速度、伽瑪、AGC、背光補(bǔ)正
3.圖象測(cè)量軟件套裝 測(cè)量功能：兩點(diǎn)距離、任意距離、圓形距離、角度距離、斜線距離
影像輸出：報(bào)告表直接輸出、任何圖像處理軟件 分辨率：0.1um
可將圖片保存至磁盤或光盤，而且還可以在圖片上添加各種文字或附加，測(cè)量結(jié)果直接顯示在圖片上。
二．研磨拋光機(jī)：
1.MP-2B無級(jí)調(diào)速式試驗(yàn)?zāi)仚C(jī)為雙盤臺(tái)式機(jī)，適用于對(duì)金相試樣進(jìn)行預(yù)磨、研磨和拋光操作。本機(jī)通過變頻器調(diào)速，可直接獲得50-1000轉(zhuǎn)/分鐘之間的轉(zhuǎn)速，從而使本機(jī)具更廣泛的應(yīng)用性，是用戶用來制作金相試樣必*的設(shè)備。
2..研磨盤直徑230mm,拋光盤直徑200mm,轉(zhuǎn)速50--1000轉(zhuǎn)每分鐘，帶冷卻裝置
三.實(shí)驗(yàn)耗材：
1.金相砂紙，背膠砂紙
| 砂紙粒度 | 預(yù)磨 | 80＃ 120＃ 180＃ 240＃ 320＃ | |||
| | 精磨 | | |||
| | | 600＃ 800＃ 1000＃ 1200＃ 1500＃ 2000＃ | |||
| | 超精磨 | P2500＃ P4000＃ P5000＃ | |||
| 砂紙直徑 | Φ200mm | Φ230mm | Φ250mm | Φ300mm | |
2.拋光絨布，PSA帶背膠拋光絨布
| 拋光織物種類 | 1.長(zhǎng)絨毛的織物 如絨布，使用于軟材料或zui后的精拋光 |
| 拋光織物直徑 | Φ200mm （對(duì)于無粘貼后背的織物，其直徑為240mm） |
| 織物背面狀態(tài) | 普 通: 使用時(shí)，直接放置在拋光盤上，用壓圈扣住即可 |
四.研磨拋光粉 液
磨料種類：氧化鋁（剛玉）、金剛石、碳化硅（金剛砂）、氧化鉻、氧化鈰、二氧化硅（膠體硅）
磨料粒度：（微米）W0.03, W0.05, W0.5 W1 W1.5 W2.5 W3.5 W5 W7
W10 W14 W20 W28 W40 W50 W63
磨料載體：懸浮液，研磨膏，微粉
其中：粒度為 0.05微米的氧化鋁懸浮液 粒度為 0.04微米的二氧化硅懸浮液
適用于各種材料的超精拋光
金剛石拋光粉，金剛石拋光液，拋光膏
五．樣片夾
用于將薄片狀、針壯樣品立起，鑲嵌后用于觀測(cè)橫截面
分三種：Clips1: 白色；, Clips2：黑色； Clips3：不銹鋼
六.冷鑲嵌模
大鑲嵌模滿足鑲嵌大樣品的需要，小鑲嵌模節(jié)約冷鑲嵌料，使用多個(gè)模子，可同時(shí)鑲嵌多個(gè)樣品采用橡皮彈性模
圓形：Ф20，Ф25，Ф30，Ф40，Ф50mm,
長(zhǎng)方形：55X20mm，70X40mm，100X50mm
硬鑲嵌模：Ф30mm
七.低速切割機(jī)，切割片，真空抽氣泵
切割機(jī)zui大轉(zhuǎn)速2500轉(zhuǎn)每分鐘，zui大切割厚度: 30毫米、zui大切割長(zhǎng)度: 140毫米
zui大卡緊厚度: 40毫米、變速范圍: 630-2500轉(zhuǎn)/分 金剛石鋸片直徑: 100毫米
金剛石鋸片厚度: 0.3-0.6毫米
金剛石超薄精密切割片 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、集成線路、電路板（PCB）行業(yè)進(jìn)行質(zhì)量監(jiān)控、失效分析、以及基礎(chǔ)材料研究適用于各種進(jìn)口和國(guó)產(chǎn)的精密切割機(jī)
