電子束曝光技術(shù)是在計算機(jī)控制下,按照加工要求的圖形,利用聚焦后的電子束對基片上的抗蝕劑進(jìn)行曝光,在抗蝕劑中產(chǎn)生具有不同溶解性能的區(qū)域,根據(jù)不同區(qū)域的溶解特性,利用具有選擇性的顯影劑進(jìn)行顯影,溶解性強(qiáng)的抗蝕劑部分被去除,溶解性差或不溶的部分保留下來,就可以得到所需要的抗蝕劑圖形。正文編輯區(qū)域參考資料編輯區(qū)域
查看詳情電子束曝光技術(shù)是在計算機(jī)控制下,按照加工要求的圖形,利用聚焦后的電子束對基片上的抗蝕劑進(jìn)行曝光,在抗蝕劑中產(chǎn)生具有不同溶解性能的區(qū)域,根據(jù)不同區(qū)域的溶解特性,利用具有選擇性的顯影劑進(jìn)行顯影,溶解性強(qiáng)的抗蝕劑部分被去除,溶解性差或不溶的部分保留下來,就可以得到所需要的抗蝕劑圖形。正文編輯區(qū)域參考資料編輯區(qū)域
查看詳情摘要 上海伯東日本*小型 Hakuto 離子蝕刻機(jī), 適用于科研院所, 實(shí)驗(yàn)室研究, 干式制程的微細(xì)加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的銑削加工.
在線詢價摘要 上海伯東日本*適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實(shí)驗(yàn)室研究的離子蝕刻機(jī), 一般通氬氣 Ar, 無污染, 內(nèi)部使用美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產(chǎn)生轟擊離子; 終點(diǎn)檢出器采用 Pfeiffer 殘余質(zhì)譜監(jiān)測當(dāng)前氣體成分, 判斷刻蝕情況.
在線詢價摘要 Leica EM ACE900 冷凍斷裂系統(tǒng)在一臺儀器中對樣品完成冷凍斷裂、冷凍蝕刻和電子束鍍膜。通過旋轉(zhuǎn)冷凍式載臺,利用電子束進(jìn)行高分辨率碳/金屬復(fù)合鍍膜,適用于任何TEM和SEM分析,可提供靈活的投影選擇。
在線詢價摘要 刻蝕設(shè)備PlasmaPro1000 Astrea新型的PlasmaPro1000 Astrea刻蝕設(shè)備,該設(shè)備可以為PSS, GaN 和AlGaInP提供大批量刻蝕提供解決方案,有助于HBLED制造商提高良率和降低使用者成本。
在線詢價摘要PLUTO-WIN是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計的高性價比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個多功能系統(tǒng),它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計與靈活的配置方案,獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小,專業(yè)的機(jī)械設(shè)計與優(yōu)化的自動化操作軟件使該設(shè)備操作簡便、安全,且工藝穩(wěn)定重復(fù)...
在線詢價摘要PLUTO-WIN是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計的高性價比CCP等離子體系統(tǒng)。作為一個多功能系統(tǒng),它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計與靈活的配置方案,獲得高性能CCP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小,專業(yè)的機(jī)械設(shè)計與優(yōu)化的自動化操作軟件使該設(shè)備操作簡便、安全,且工藝穩(wěn)定重復(fù)...
在線詢價摘要 MATTSONASPENIIINEXION二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨,已經(jīng)拆解并打包封裝完成,隨時可以發(fā)貨,支持技術(shù)修改、調(diào)試和售后維修
在線詢價摘要 二手刻蝕機(jī)MATTSONPARADIGM,PRAsher設(shè)備,雙工作腔室,可對尺寸為12英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理,已拆卸和打包完成,可隨時發(fā)貨
在線詢價摘要 AXCELIS/FUSIONRADIANTSTRIP320ES刻蝕機(jī),Stripper/Asher系統(tǒng),現(xiàn)貨供應(yīng),打包完成,可隨時發(fā)貨
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