摘要熱沉積式的 ALD 需要較高的制程溫度 (傳統為 150-350°C). 上海伯東代理原子層沉積設備可以精準的控制 ALD 的制程, 薄膜的厚度和均勻度皆小于 +/- 1％, 廣泛應用于 OLED 和硅太陽能電池的鈍化層, 微機電系統, 納米電子學, 納米孔...

摘要 上海伯東針對薄膜封裝推出電漿輔助式化學氣相沉積, 原子層沉積和聚對二甲苯沉積等三種設備, 且使用低溫的沉積技術, 分別在 OLED 上堆疊多層薄膜, 廣泛應用于有機發光二極體, 有機光伏打電池和材料科學研究.

摘要 上海伯東代理的金屬熱蒸鍍設備加裝美國 KRI 離子源, 可以精準的控制蒸發速度, 為客戶提供品質的復合式薄膜, 且薄膜的厚度和均勻度小于+/- 3％, 廣泛應用于納米薄膜, 太陽能電池等行業以及金屬材料的研究等.

摘要 上海伯東代理的連續式多腔磁控濺鍍設備可準確控制其濺鍍制程條件, 為客戶提供更優質的薄膜, 廣泛應用于納米研究技術, 材料研究, 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究, 太陽能電池和觸碰螢幕等行業.

摘要 上海伯東代理多層膜磁控濺鍍設備 Multilayer sputter 擁有基板公自轉機構, 搭配美國 KRI 離子源可實現多層膜結構并可以一次批量生產, 廣泛應用于半導體, 納米科技, 太陽能電池, 科研等行業, 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.

摘要 上海伯東代理超高真空磁控濺鍍設備 UHV Sputter 廣泛應用于半導體, 納米科技, 太陽能電池,科研等行業, 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.

摘要上海伯東代理的磁控共濺鍍腔提供了準確控制多個磁控濺鍍的制程條件, 加裝美國 KRi 離子源為客戶提供更好質量的復合式薄膜.單片和多片式的loading chamber, 可節省其制程腔體的抽氣時間, 進而節省整體實驗時間. 廣泛應用于半導體, 納米科技, 太陽能電池等...

摘要 上海伯東代理剝離成形電子束設備可以準確的控制蒸發速度, 因此薄膜厚度和均勻度皆小于 ±3％, 客制化的基板尺寸, z大直徑可達 12寸晶圓, 腔體的極限真空度約為 10-8 Torr.

摘要上海伯東代理 SYSKEY 中國臺灣矽碁科技超高真空電子束蒸鍍設備腔體極限真空度約為 10-10Torr, 針對超高真空和高溫加熱設計基板旋轉鍍膜機構, 使用陶瓷培林旋轉, 并在內部做水冷循環來保護機構以確保長時間運轉的穩定性, 可以提供高質量的薄膜, 薄膜均勻度小于...

摘要上海伯東代理 SYSKEY 中國臺灣矽碁科技電子束蒸鍍設備是一種實用且高度可靠的系統, 蒸鍍系統可針對量產使用單一坩堝也可以有多個坩堝來達到產品多層膜結構. 在基板乘載上針對半導體研究和大型設備設計, 單片和多片公自轉的設計可以控制蒸發速率, 薄膜厚度和均勻度小于 +...

摘要 磁控濺射是物理氣相沉積技術(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一種

摘要 手動磁控濺射系統適用于本科生教學，研究生科研訓練，也可以應用于科研工作

摘要 磁控濺射

摘要 AFA-II自動涂膜機AFA-II自動涂膜機是為了使試驗人員能方便地在不同底材上涂布出的涂膜，減小由于涂布速度及施加壓力不同等人為因素造成的誤差

摘要NMC-4000 MOVPE設備：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統（PA-MOCVD）,該系統具有5個鼓泡裝置（各帶獨立的冷卻槽）、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的...

摘要NLD-3500（A）全自動原子層沉積設備：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統計的沉積。這使得ALD原...

摘要NLD-4000（A）全自動原子層沉積系統：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統計的沉積。這使得ALD原...

摘要NLD-4000（ICPA）全自動PEALD系統：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統計的沉積。這使得A...

摘要NMC-3000等離子輔助MOCVD系統：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統（PA-MOCVD）,該系統具有5個鼓泡裝置（各帶獨立的冷卻槽）、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工...

摘要NMC-4000（A）全自動PAMOCVD系統：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統（PA-MOCVD）,該系統具有5個鼓泡裝置（各帶獨立的冷卻槽）、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源...

摘要NPD-4000（A）全自動PLD脈沖激光沉積系統：脈沖激光束聚焦在固體靶的表面上。固體表面大量吸收電磁輻射導致靶物質快速蒸發。蒸發的物質由容易逃出與電離的核素組成。若果溶化作用在真空之下進行，核素本身會即時在靶表面上形成光亮的等離子羽狀物。激光加熱方法特別適用于蒸發...

摘要NPE-4000（A）全自動PECVD等離子體化學氣相沉積系統: NM的PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12“ 的基片.淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源，樣品臺通過RF或脈沖DC產生偏壓?？芍С旨訜岷屠鋮s.使用250l/sec渦輪...

摘要NPE-4000（ICPA）全自動ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統: NM的PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可達6“ 基片.淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源，樣品臺通過RF或脈沖DC產生偏壓?？芍С旨訜岷屠鋮s.使用250l/sec...

摘要NSC-1000磁控濺射系統：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉平臺，支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉...

摘要NSC-3000（A）全自動磁控濺射系統：臺式自動系統，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離...

摘要NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統：立式自動系統，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉平臺，支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離...

摘要NSC-4000（A）全自動磁控濺射系統：立式自動系統，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉平臺，Z大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基...

摘要NEE-4000（A）全自動電子束蒸發系統：NEE-4000電子束蒸發系統為雙腔配置，樣品臺位于主腔體，二級腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間的門閥作為預真空鎖，使得電子束源腔體保持真空的情況下，通過主腔放入基片到樣平臺（或夾具）上或從中取出。自動裝/卸載基片可通過第...

摘要NTE-3500（A）全自動熱蒸發系統：全自動立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復的工藝特點。具有低價格, 高性能以及高能力的特點，可滿足于客戶研發及小規模生產的應用要求，該系統可以在設定的RMS電流下，或...

摘要NTE-4000（A）全自動熱蒸發系統：全自動立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復的工藝特點。具有低價格, 高性能以及高能力的特點，可滿足于客戶研發及小規模生產的應用要求，該系統可以在設定的RMS電流下，或...

摘要NTE-4000（M）熱蒸發系統：NTE-4000是PC控制的立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復的工藝特點。具有低價格, 高性能以及高能力的特點，可滿足于客戶研發及小規模生產的應用要求，該系統可以在設定的...

摘要 我們采用以下手段，可以制備各種膜！電子束蒸鍍（E-beamevaporation）：-可以蒸鍍各種金屬、非金屬材料磁控濺射鍍膜（MagnetronSputtering）：-制備各種金屬、非金屬薄膜

摘要 關鍵詞：金屬薄膜，氮化鋁、壓電薄膜、AlN、Si3N4薄膜、MEMSTiN薄膜，抗腐蝕硬質膜，半導體薄膜，氧化物絕緣層型號：MP450S，產地：歐洲，應用：沉積硬質膜，半導體膜，氧化物絕緣層等

摘要 關鍵詞：單層膜、多層膜、半導體、光電子學、光子學、微機電系統、MEMS、微流體技術、磁性膜、光學膜、金屬膜、絕緣膜、半導體膜、共濺射連續沉積、進口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶型號：MP600S，產地：歐洲，應用：制備單層/多層金屬薄膜

摘要 關鍵詞：鍍膜、金屬膜、Al,Ti,Cr,Ni,Cu,Au,Nb,W,Pd,Pt,Mo可在導體或絕緣體上濺射任何薄膜氣路：Ar氣路配搭MFC陰極：3個4英寸直流磁控管

摘要 關鍵詞：單層膜、多層膜、磁性膜、光學膜、金屬膜、絕緣膜、半導體膜連續沉積、進口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶型號：MP900S產地：歐洲應用：單層膜、多層膜、磁性膜配置多個可更換金屬靶：Ni

摘要關鍵詞：單層膜、多層膜、半導體、光電子學、光子學、微機電系統、MEMS、微流體技術、磁性膜、光學膜、金屬膜、絕緣膜、半導體膜、共濺射連續沉積、進口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶型號：MP500S，產地：歐洲，應用：沉積AlN、Si3N4，TiN...

摘要 蒸發鍍膜儀

摘要 AFA-II自動涂膜機AFA-II自動涂膜機是為了使試驗人員能方便地在不同底材上涂布出精確的涂膜，減小或消除由于涂布速度及施加壓力不同等人為因素造成的誤差

摘要 一、概述：AFA系列自動涂膜機采用電動推桿實現濕膜制備器或線棒的涂布運動，有效避免手工涂布的不穩定性

摘要 Sheen線棒涂膜機由不銹鋼制成，可以用于涂料、油墨、粘合劑等的涂膜制備。

摘要 VTC-300USS超聲霧化旋轉涂膜機可以精確控制溶液化學計量比、霧粒噴出速度、霧粒大小等參數

摘要 技術參數：AFA-II自動涂膜機是為了使試驗人員能方便地在不同底材上涂布出精確的涂膜，減小或消除由于涂布速度及施加壓力不同等人為因素造成的誤差

摘要全自動熱蒸發鍍碳儀蒸碳儀噴碳儀鍍膜儀 優勢看得見：1. 7英寸彩色觸摸屏，全數字顯示，直觀清晰；2. 具備脈沖加熱和連續加熱兩種工作模式，適用各種不同的樣品；3. 自動檢測每根碳繩的狀態，并在鍍膜過程中自動切換；4. 每根碳繩使用前會進行自動除氣，確保碳膜的純...

摘要LBT自動涂膜機參數：△總功率：350W 電源： 220V 50Hz?！髡婵瘴P涂布尺寸：300 mm × 200 mm?！魍坎奸L度：300 mm?！魍坎妓俣龋? ～ 10 cm/s 無級變速。△外形尺寸：705×505×270 mm （長×寬×高）?！髦?量：約65...