詳細說明
生產的系列熱工設備：
【產品簡介】
擴散爐是集成電路生產線前工序的重要工藝設備之一，它的主要用途是對半導體進行摻雜，即在高溫條件下將摻雜材料擴散入硅片，從而改變和控制半導體內雜質的類型、濃度和分布，以便建立起不同的電特性區域。
在現代工業中，擴散爐常常用于半導體器件的擴散、氧化退火、燒結等工藝設備，也可作為磁性材料的燒結工藝，還可適用于機械行業的淬火，冶金業稀土燒結工藝。
【產品特點】
●新型爐體設計，提高了溫度穩定性；配合高精度溫控儀的使用，保證工藝過程中溫度的快速穩定。
●主機為水平一至四管爐系統構架，獨立完成不同的工藝或相同工藝 。
●工業計算機控制系統，對爐溫、進退舟、氣體流量、閘門等動作進行自動控制。
●采用懸臂送片器：操作方便、無摩擦污染。
●工藝管路閥門管件組成氣密性好、耐腐蝕、無污染（管路均采用EP級電拋光管路），流量控制采用質量流量計（MFC）進口。
●具有斷電報警、超溫報警、極限超溫報警等多種安全保護功能。
【擴散爐系列性能技術指標】
型號 爐管內徑（mm） 爐管數量（管） 工作溫度（℃） 恒溫區長度（mm） 升溫時間（min） 穩定時間（min） 升溫功率（KVA/管） 恒溫功率（KVA/管） 重量（Kg） 外型尺寸 （長*寬*高） L4513Ⅱ-1/RZQ Φ80 1 500 > <90 <120 <8.5 <4 320 1400*560*1370 L4513Ⅱ-2/RZQ L4513Ⅱ-3/RZQ 450 1400*560*1793 L4514Ⅱ-1-3/RZQ Φ90 1-#-3 30 <90 <3.3 485 對應序號同上 L4513Ⅱ-11/RZQ Φ90 1 <90 <120 <9.6 <4.5 330 1400*560*1370 L4513Ⅱ-12/RZQ 2 475 1400*560*1793 L4513Ⅱ-11-12/RZQ Φ98 1-#-2 <40 <90 <4.3 450 對應序號同上 L4513Ⅱ-14/RZQ 1 <60 <90 <10 <4.8 360 1600*500*1490 L4513Ⅱ-15/RZQ 2 510 1600*500*1903 L4513Ⅱ-21/RZQ Φ100 1 <90 <120 <10 <5 340 1400*560*1370 L4513Ⅱ-22/RZQ 2 500 1400*560*1793 L4514Ⅱ-21-22/RZQ Φ118 1-#-2 <40 <90 <4.8 490 對應序號同上 L4513Ⅱ-31/RZQ Φ120 1 <40 <150 <12 <6.5 400 1600*600*1409 L4513Ⅱ-32/RZQ 2 580 1600*600*1903 L4512Ⅱ-31-32/RZQ 1-#-2 <90 <5.5 580 對應序號同上 L4514Ⅱ-31-32/RZQ Φ135 1-#-2 同上 同上 <12 <6 600 1600*600*1720 L4514Ⅱ-41-42/RZQ Φ150 <13.5 <6.8 L4514Ⅱ-51-52/RZQ Φ180 1-#-2 同上 同上 <18 <9 650 1700*600*1800 L4514Ⅱ-61-62/RZQ Φ200 1-#-2 <120 <160 <20 <10 680 1750*650*1850 L4514Ⅱ-71-72/RZQ Φ240 1-#-2 <120 <180 <24 <12 700 1800*700*1900 說明 : 1、全部指標為靜態 。 2、分離式注明“F”。 3、特殊要求，另行設計制造。
