
● 4/6/8英寸兼容,單片晶圓真空傳輸系統
● 低成本高可靠,適合研發及小規模生產
● 設備結構簡單,外形小
● 操作簡便、便于自動控制、適合大面積基片刻蝕
● 優異的刻蝕均勻性,刻蝕速率快
●滿足半導體標準的配方驅動及管理軟件控制系統
● 選擇比高、各向異性高、刻蝕損傷小
● 斷面輪廓可控性高,刻蝕表面平整光滑

晶圓尺寸:4/6/8英寸兼容
適用工藝:等離子體刻蝕
適用材料:SiC、Si、GaN、GaAs、InP、Ploy,etc.

適用領域:化合物半導體,MEMS、功率器件、科研等領域
沛沅儀器是一家集等離子體技術設計、制造、產品開發、銷售與服務于一體的技術型企業,公司致力于提供專業的等離子表面處理系統,向用戶提供國內*的等離子表面處理設備和優質專業的服務。
公司技術團隊67%以上具備碩士或碩士以上學位,公司由*從事等離子體應用技術研究開發、多次參與國家重大科學工程研究的專家和產業化專家聯合創建,提供一系列等離子體表面處理系統、等離子體刻蝕系統、常壓等離子清洗設備等,并與中科院上海應用物理研究所,復旦大學,中國科技大學,上海科技大學,上海交通大學等建立了密切的技術合作交流關系。
公司的愿景是成為等離子體應用領域的優質供應企業,用科研的沉淀和應用的創新,為中國的制造業崛起和化戰略貢獻一份力量。
● 4/6/8英寸兼容,單片晶圓真空傳輸系統
● 低成本高可靠,適合研發及小規模生產
● 設備結構簡單,外形小
● 操作簡便、便于自動控制、適合大面積基片刻蝕
● 優異的刻蝕均勻性,刻蝕速率快
●滿足半導體標準的配方驅動及管理軟件控制系統
● 選擇比高、各向異性高、刻蝕損傷小
● 斷面輪廓可控性高,刻蝕表面平整光滑
晶圓尺寸:4/6/8英寸兼容
適用工藝:等離子體刻蝕
適用材料:SiC、Si、GaN、GaAs、InP、Ploy,etc.
適用領域:化合物半導體,MEMS、功率器件、科研等領域
產品名稱 | 參考價 | 地區 | 公司名稱 | 更新時間 | |
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Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 電子束刻蝕系統 | ¥13 | 上海 | 上海伯東企業有限公司 | 2022-09-29 | 在線詢價 |
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